1、China New Metal（CNM）高纯硅(蒸发料，丝状，片状，颗粒，棒状，块状，粉体)加工工艺流程
原 料 |
| 原料检测 |
| 熔 炼 |
| 浇 铸 |
| 粉体制备 | ||
选用进口或 国产高纯硅 | 碳硫氧氮分析，ICP，XRD，GDMS。 | 热等静压烧结，真空感应熔炼 电子束熔炼，悬浮熔炼等。 | 电解，雾化，羰基，还原，激光制粉等。 | |||||||
加工成型 |
| 清 洗 |
| 成品检测 |
| 合 格 |
| 包装出库 |
| 交付客户 |
锻造，拉丝， 轧板，切割。 | 成品外观，纯度，尺寸公差。 | 专用包装 | ||||||||
2、适用方向及应用领域
2-1适用方向：可用于半导体，晶闸管、场效应管，各种集成电路，镀膜，光导纤维通信，航空航天、电子电气、建筑、运输、化工、纺织、食品、轻工，于密封、粘合、润滑、涂层、表面活性、脱模、惰性填充等行业。
2-2应用领域：生产及科研应用领域。
3、规格
3-1 材质：硅Si。
3-2 纯度：99.99%，99.999%，99.9999%。
3-3 晶粒度：45微米。
3-4 尺寸：丝状规格（mm）：Ф0.02，Ф0.05，Ф0.08，Ф0.1，Ф0.2，Ф0.3，Ф0.5，Ф0.8，Ф1.0，Ф1.2，Ф1.5，Ф1.8，Ф2.0，Ф2.5，Ф3.0，Ф5.0，Ф6.0mm等。
颗粒规格（mm）：0.5-1，1-2.5，1-3，1-5，3-5，5-8，1-10mm等。
微米粉末规格（mm）：10，15，20，30，45，50，75微米等。
纳米粉末规格（nm）：20，40，60，80，100nm等。
圆柱体规格（nm）：Ф2*5，Ф2*10，Ф3*3，Ф3*5，Ф3*10，Ф6*6，Ф6*10，Ф6*12mm等。
棒状规格（nm）：Ф6，Ф8，Ф10，Ф15，Ф20，Ф30，Ф40，Ф50，Ф70，Ф80，Ф100mm等。规格可根据客户要求定做 。
3-5 密度：2.33g/cm³。
3-6 表面粗糙度：/
3-7 外观：目视检查无破损、划伤、污迹、裂纹等在使用上有害的缺陷。
4、包装及运输
4-1 无油、指纹等的污迹。
4-2 包装材料采用专用真空包装袋，专用包装盒。
4-3 运输时，放于专用木箱或纸箱里，包装内侧用珍珠棉严格保护起来。
4-4 运输要注意避免破损或污染。
6、标识
6-1 品名、纯度、规格、批号、制造日期贴在包装袋外侧。
7、出货报告
报告上分别记载有检查结果表
检查项目 | 检查方法 |
7-1外观（制造商名称、编号、名称） | 目视 |
7-2尺寸 | 游标卡尺，千分尺，激光粒度仪。 |
7-3光洁度 | 光洁度对照块 |
7-4金属杂质（Fe，Ni，Ti，Cr，Mg，AI，Cd等） | ICP，GDMS |
7-5气体杂质（O/N/C/S) | 气体分析设备LECO(热燃烧技术)氧氮分析仪，碳硫分析仪。 |
7-6组成 | ICP |
7-7弯曲度 | 直线视、间隙测量仪 |
7-8净重 | 电子称 |
7-9毛重 | 电子称 |
8、储存
8-1需储存于手套箱，氮气柜，干燥环境，密封包装，防压防撞。
